来源：中央美术学院美术馆

流动的痕迹——国际版画艺术展
 

展览时间：2021年10月20日-11月13日
展览地点：中央美术学院美术馆2层B展厅

学术主持：徐冰
策展人：托马斯·吴 杨宏伟 刘欣怡

主办：中央美术学院
承办：中央美术学院美术馆
协办：哥伦比亚大学勒罗伊尼曼版画中心

“流动的痕迹——国际版画艺术展”将于2021年10月20日至11月13日在美术馆二层B展厅举办。该展览由中国中央美术学院主办，中央美术学院美术馆承办，美国哥伦比亚大学勒罗伊•尼曼版画中心协办。哥伦比亚大学教授托马斯•吴、中央美术学院教授杨宏伟、艺术家刘欣怡共同担任策展人。将展出来自世界各国逾百件艺术作品，参展艺术家（按姓氏首字母排序）包括塞西莉•布朗、方力钧、艾伦•加拉格尔、古元、威廉•肯特里奇、李桦、奇奇•史密斯、苏新平、萨拉•施、里克力•提拉瓦尼、卡拉•沃克、徐冰等。

 
《恕吼吧，中国！》，李桦，木版单色，27.5×18.7厘米，1938
 

《玉带桥》，古元，木板套色水印，28×31.8厘米，1962
 

《木月》，奇奇·史密斯，木口木刻，365.8×243.8 厘米，2021
 

《山中的骡子包》，卡拉·沃克，平版胶印和丝网，99.1×134.6 厘米，2005
 

《凤凰图二》，徐冰，版画纸、微电压印刷，39.9×56.8厘米，2014
 

《荒原3号》，苏新平，铜版画，300×200厘米，2017
 

当我们谈及版画，似乎早已习惯于将版画假定成木版、石版、铜版、丝网版等技法的产物。此次展览，艺术家们将以怀疑者的立场去重新审视、思考与探究版画：

“ 为什么做版画？”
“ 版画于我的意义是什么？”

《无题》，塞西莉·布朗，平版胶印，103× 70厘米，2014
 

《2017》，方力钧，木刻版画，244×122厘米，2017
 

《日落和蓝天：破旧的日落》，尼可拉·洛佩兹，数码喷绘拼贴，54.6×45.7厘米，2019
 

《希望你在这里III》，托马斯·吴，激光切割拼贴和丝网，76.2×101.6 厘米，2021
 

《城市幽灵三》，王华祥，木版画，92 ×92厘米，2004
 

《卡特琳·李1》，约翰·沃克，手工着色照相凹版，59 ×49.5 厘米，2016
 

本次展览是一场针对所有参展艺术家们的发问，所展出的每件作品都是艺术家们对这些发问的直接或间接的作答。有的艺术家从“版”的概念出发，有的从“板”的构造出发，有的从“印”的动作出发，有的从“刻”的姿态出发，有的从“复数”的语言出发，有的从材料的特性出发。有的在叠加，有的在简化。艺术家们多样的国界、背景、年代势必会为提问带来不同质地的回答，这些答案既将版画掷入一个具有社会性意义的语境，又将关于版画的讨论推恿至：

 “ 版画的未来会是什么？”

《无题》，詹妮弗·纳斯，喷绘和铜板，90.2 ×71.1厘米，2013
 

《生命之树之一》，孔亮，铜版，200×60厘米，2021
 

《2020》，冯梦波，石版画，35×35厘米，2020
 

《扩音器》，威廉·肯特里奇，铜版，43.2×36.8厘米，2008
 

《林格斯 (L.G.)》，大卫·阿尔特米德，铜板、喷绘、拼贴、手绘，10.2×7.5 厘米，2014
 

《肤》，刘欣怡，宣纸拓印和拼贴，142×196厘米，2020
 

主编：何一沙
责编：吴靖
现场图：王睿莹