“2024国际学院版画联盟第五届双年展”征稿部分经过21位专家评委评选，最终入选102件（组）作品。

入选艺术家名单

请入选艺术家于2024年9月1日前登录中央美术学院国际学院版画联盟官网iapa.cafa.edu.cn填写参展信息表。

2024国际学院版画联盟第五届双年展

The Fifth IAPA Printmaking Biennale 2024

一、  综述：

今年是“国际学院版画联盟”成立第八年，第五届国际学院版画联盟双年展暨学术研讨会也将在中国西安举办。八年时间里“国际学院版画联盟”联合了全球重要的美术学院、版画机构在多个国家和地区举办了展览和活动。推进了全球版画事业的发展和交流，促进了不同文化语境下各国版画创作与研究，尤其是对国际版画教学与交流，起到了不可替代的作用。作为高等美术教育学术交流和研究的权威平台，联盟运用国际双年展机制，将全球版画艺术展示给更为广泛的地域和群体，探讨人、科技、自然、社会在快速变革时代所呈现的问题与未来的发展。

  值得高兴的是，第五届国际学院版画联盟大展和研讨会，来自英国、美国、意大利、波兰、阿根廷、比利时、挪威、西班牙、斯洛文尼亚、南非、保加利亚、日本等国版画精英和领袖可以亲历展览现场并面对面地进行深度学术交流。为此，我们努力扩展邀请了更多艺术家、机构、媒体参加此次双年展及活动。展览将由中国中央美术学院、中国西安美术学院共同主办。将于 2024年10月17日至11月17日在中国陕西省西安市美术馆举办。

  此届展览主题确定为“变换的科技与不变的版画”。探讨人工智能时代版画的未来与发展。版画艺术伴随科技产生与发展，其科技性和实验性超越了画种的边界，在艺术教育中对于思维的拓展、艺术教育体系的迭代与更新；对于审美与科技的融合及其影响，尤其是版画艺术与数字艺术、AI的结合呈现出新的艺术样貌等学术界关心的热点话题进行讨论。同时，对于传统版画艺术的深化与当代文化的融合在多维度上拓展进行研讨。我们期待此次国际版画展览盛会圆满成功，学术研讨取得丰硕成果。

二、展览概况：

国际学院版画联盟第五届双年展参展有国际学院版画联盟成员及推荐艺术家作品，同时公开征集更多优秀的艺术家及版画作品参加本届联盟版画大展。

本次展览将举办以“变幻的科技与不变的版画”为主题的学术研讨会，并结合研讨会记录，整理成版画理论文集并收录在出版画册中。

三、学术活动：

学术活动拟由两部分组成：

1、国际学院版画联盟第五届双年展（2024年10月17日-11月17日）

2、“变幻的科技与不变的版画”主题研讨会（2024年10月19日）

四、评审及推荐委员：

王华祥、杨锋、宋光智、孔亮、郭浩、曹晓阳、刘春杰、王家增、韦嘉、杨宏伟、孔国桥、文中言、郭鉴文、曹丹、徐宝中、贺思恩、刘京，周仲铭、于洪、隋丞、彭伟。

Joseph Scheer 约瑟夫·舍尔（美国）、 Andrea Lelario 安德烈·雷拉里奥（意大利） 、Paolo Laudisa 保罗·劳迪萨（意大利） 、Alicia Candiani 艾丽西亚·坎迪亚妮（阿根廷）、Peter Bosteels 彼得·博斯蒂尔（比利时）、Margrita Gonzalez 玛格丽特·冈萨雷斯（西班牙）。

五、主办单位：

中央美术学院

西安美术学院

六、承办单位：

西安美术学院

七、学术主持：朱尽晖 尹吉男 苏新平 吴洪亮

策 展 人：王华祥 杨锋

展览执行：孔亮  周仲铭

常务秘书：李巍  王华

八、展览时间、地点：

2020年10月17日——11月17日

中国 陕西省西安市美术馆